2013年4月3日下午，清华大学雒建斌院士做客松湖华科创新大讲堂第15讲，做了题为“纳米制造—超光滑表面超光滑表面制造中的纳米颗粒行为研究”的主题报告，使在座的听众了解了我国纳米制造前沿技术及实际应用。

     纳米制造是先进制造技术的前沿领域，目前正在从实验室走向工业应用，在集成电路（IC）、硬盘驱动、LED晶圆制造中得到了广泛应用。雒建斌院士详细介绍了清华大学摩擦学国家重点实验室在纳米制造领域的最新研究进展，重点报告原子级光滑表面制造技术—化学机械平坦化（CMP）的理论技术研究成果及其在IC制造等行业实际应用情况，为发展高端装备制造等战略性新型产业提供了新的思路。

     据了解，先进电子制造是制造技术的最前沿，它的水平代表着一个国家制造水平的高低，而我国的电子制造水平却长期落后于西方，这其中关键技术之一就是超精表面抛光、改性和测试技术。它主要应用于磁记录领域中的计算机硬盘磁头表面及硬盘盘基片表面的抛光，同时还应用于集成电路领域的硅晶片加工和半导体领域的发光二极管（LED）蓝宝石基片的加工。雒建斌院士和他的团队经过多年研究在该项技术上取得了突破性进展，对我国电子制造业走上自主创新的道路产生了较大的推动作用。

雒建斌院士简介：
   中国科学院院士、摩擦学专家、清华大学精密仪器与机械学系“长江学者”特聘教授。现任摩擦学国家重点实验室主任、精密仪器与机械系学术委员会主任。他长期从事纳米摩擦学研究和纳米制造研究。曾获国家发明三等奖、国家自然科学二等奖、国家科技进步二等奖和省部级科技奖7项。